국내 반도체 핵심 기술을 미국, 중국 등 해외로 빼돌린 전·현직 삼성그룹 임직원 10명이 무더기로 재판에 넘겨졌다. 서울중앙지방검찰청 정보기술범죄수사부(부장검사 이성범)는 27일 국내 반도체 관련 산업기술 국외 유출 사건 2건을 수사해 연구원 등 7명을 구속기소하고, 3명을 불구속 기소했다고 밝혔다.

연구원 최 모씨는 2018년 중국 A사로 이직하면서 삼성엔지니어링 엔지니어 유 모씨와 임 모씨에게서 초순수시스템 관련 기술자료를 취득한 혐의를 받는다. 이들은 모두 구속기소됐다.

초순수는 불순물을 10조분의 1단위 이하까지 제거한 물로서, 반도체 공정에 필요한 각종 세정 작업에 사용되는데 이를 개발하기 위해 삼성전자는 매년 300억원 이상을 투자해왔다.

또 검찰은 전·현직 삼성엔지니어링 연구원에게 초순수시스템 관련 기술자료를 빼내 A사 입찰에 참여한 국내 중소기업 B사 임원 정 모씨를 구속기소했다. 여기에 가담한 연구원들과 B사도 기소했다. 해외 경쟁 업체인 인텔로 이직하기 위해 삼성전자의 파운드리 공정 관련 국가 핵심 기술자료 33개를 몰래 촬영한 삼성전자 연구원 최 모씨도 구속기소됐다. 검찰은 최씨가 재택근무 상황을 이용해 주거지에서 반도체 기술자료를 열람하고 이를 촬영해 빼돌린 것으로 봤다.

검찰은 "산업기술의 국외 유출이 엄정하게 처벌될 수 있도록 최선을 다하겠다"고 밝혔다.

[최예빈 기자]
[ⓒ 매일경제 & mk.co.kr, 무단전재 및 재배포 금지]